2024年3月20日，慕尼黑上海光博会在上海新博览中心顺利举行。本次展会展出面积超80000平方米，邀请了来自全球23个国家和地区的1160家展商共聚上海，吸引了国内外超9万名观众参观。展商及观众对本届光博会都给予了高度评价。其中，厦门韫茂科技有限公司凭借自身过硬的实力，在本届光博会脱颖而出，成为焦点之一。
厦门韫茂科技有限公司展位
厦门韫茂科技有限公司(以下简称：韫茂科技)成立于2018年，是一家以纳米级薄膜沉积工艺技术为核心的多领域全栈式薄膜沉积方案供应商，致力于为客户提供全方位的技术解决方案以及先进的纳米材料薄膜沉积装备。
一直以来，韫茂科技都坚持在技术上寻求突破，专注于将前沿技术融入到产品生产中，从先进制造国产化痛点着手，以自主创新打开国内高端产品市场。目前已形成了以ALD原子层成膜系统、PVD物理气相沉积系统、CVD
化学气相系统、Epitaxy外延炉等一系列薄膜沉积设备为核心的产品矩阵。
而在本次展会现场，韫茂科技重点展示了PBATCH批次型等
离子体ALD，吸引了众多观众前来咨询与交流。
PBATCH批次型等离子体ALD
PBATCH实现低温高质量PEALD工艺，可应用在高分子材料衬底等温度敏感的衬底，制备氧化物、氮化物、
金属层等应用，最大可支持多片12寸样品。而ALD沉积速率低，限制了生产效率，批次性ALD可大幅提高ALD产能，降低客户使用成本。
产品亮点
•全自动、多片、大批量生产；
•批次等离子体ALD可为客户带来更多功能性薄膜选择；
•可提高ALD产能，降低客户使用成本，实现极致COO；
•可在光学薄膜沉积上实现设备国产化替代；
•工业标准安全互锁、报警、EMO。
CBATCH 300S 新型多片批次型ALD
多片批次式ALD，能够实现全自动、多片、连续化生产，有效提高产能，降低COO。并且多片批次式ALD能够实现原子级别的精确控制，ALD沉积薄膜无针孔，质量高，可作为高K值介质层，金属层，封装层，电镀种子层及其他功能层应用，广泛应用于Mini/Micro LED、第三代半导体以及集成电路制造等领域。
产品亮点
•3D镀膜实现原子级别精确控制
•高度精度、高重复性全自动上下料传输
•全自动、多片、连续化生产，有效提高产能，降低COO
•实现超高深宽比(1000:1)结构的镀膜，ALD沉积薄膜无针孔，质量高
自成立以来，韫茂科技始终将实现客户价值观作为企业使命，以成本低、质量高、品种新、服务优、交期准为专业基础，以客户为中心，主动了解客户需求，努力为顾客提供全面针对性的解决方案。未来公司也将继续将目光聚焦于填补部分国家高端装备的空缺，为大众提供更好用更实惠的产品。
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