上市时间：2018-01-17
创新点：薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µm的膜厚分析测量，对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同，可以分析单层或多层膜厚。
薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µm的膜厚分析测量，对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同，可以分析单层或多层膜厚。
薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µm的膜厚分析测量，对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同，可以分析单层或多层膜厚。
产品特点
可分析单层或多层薄膜
分辨率达0.1nm
适合于在线监测
操作理论
zui常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和投射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。
查找n和k值
可以进行多达三层的薄膜测量，薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库，用户也可以自己添加和编辑。
应用
NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量，包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。
NC-UV-VIS-NIR | |
重量： | 250-1100 nm |
厚度： | 10 nm-70 µm |
光源： | 氘卤灯 |
NC-UV-VIS | |
重量： | 250-850 nm |
厚度： | 10 nm-20 µm |
光源： | 氘卤灯 |
NC-VIS-NIR | |
重量： | 400-1100 nm |
厚度： | 20nm-100µm (可选1µm-250µm) |
光源： | 卤灯 |
NC-VIS | |
重量： | 400-850 nm |
厚度： | 50 nm-20μm |
光源： | 卤灯 |
NC-NIR | |
重量： | 650-1100 nm |
厚度： | 70 nm-70μm |
光源： | 卤灯 |
NC-NIR-HR | |
重量： | 650-1100nm |
厚度： | 70 nm-70μm |
光源： | 卤灯 |
NC-512-NIR | |
重量： | 900-1700 nm |
厚度： | 50 nm-200μm |
光源： | 高亮度卤灯 |
入射角： | 90° |
层数： | 3层以下 |
需要进行参考值测量： | 是 |
透明材料： | 是 |
传输模式： | 是 |
粗糙材料： | 是 |
测量速度： | 100ms - 1s |
在线监测： | 可以 |
公差（高度）： | 参考值测量或准直(74-UV) |
公差（角度）： | 参考值测量 |
微黑子选项： | 配显微镜 |
显示选项： | 配显微镜 |
定位选项： | 6"和12" XYZ 定位台 |
真空： | 可以 |
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